池田理化オンラインカタログ

水素仕様赤外線ランプ加熱装置
VHC特型

アドバンス理工

ガス使用電源確認

VHC特型本体写真

水素還元雰囲気下での高速加熱・冷却システム
CO2削減に寄与する金属材料の還元雰囲気での加熱に最適
本装置は水素雰囲気化で熱処理可能なバッチ式装置です。
熱処理室には50mm×50mm、t=1.5mmの試料に対応しています。試料はフェースアップの状態で赤外線ゴールドイメージ炉の中心に設置されます。水素・窒素・アルゴンを流した状態で加熱処理することが可能です。赤外線ランプ加熱炉に透明石英チャンバを組み合わせシステム化した装置です。水素を安全に使用できますので、金属材料の還元雰囲気での加熱に最適でございます。

特長

  • 赤外線加熱炉とCold wall構造の加熱チャンバでクリーンな熱処理
  • 同上構造による急速加熱/冷却及びヒートサイクルが可能
  • 水素100%雰囲気実現のため各種安全仕様対応
  • 超高温ランプ採用のため1,300℃での長時間の加熱試験も可能
    
型式・型番 VHC特型
加熱方式 放物面反射赤外線菅状加熱方式
最高温度/常用温度 RT~1300℃/1100℃
雰囲気 水素ガスフロー中、アルゴンガスフロー中、窒素ガスフロー中、真空中
熱処理チャンバ Φ98mm×L380mm 透明石英ガラス製(約3L)
均熱ゾーン(加熱時) Φ40mm×長80mm
試料サイズ W50mm×D50×H1.5mm 1枚 重量約2g
サイズ・重量 本体:W1500×D600×H1400mm 500kg
受電ランプ付き配電BOXを装置横に設置いたします。
ロータリーポンプは架台筐体内に収納します。
電源 単相 AC220V 120A
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