池田理化オンラインカタログ

高温赤外線ランプ加熱装置
HT-RTP-4000

アドバンス理工

ガス使用電源確認

RTA本体

半導体や情報通信産業の研究・開発に活躍!
構造改良により1350℃での4時間保持を実現
本装置は4インチ(Φ100㎜)ウエハ用の高温赤外線ランプ加熱装置です。
赤外線ランプ加熱炉にメタルチャンバを組み合わせ、コールドウォール構造の特徴を持っております。ガス雰囲気下で広範囲の熱処理が高精度かつ手軽に行えます。
また半導体製造装置との連結が可能なため、半導体や情報通信産業での研究・開発にご利用いただけます。

特長

  • 超高温・長時間加熱が可能
  • チャンバ内、汚れ防止に石英防着板取り付け可能(オプション)
  • お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
  • 9ゾーン出力制御により優れた温度分布と再現性が可能

トレンド用途:特殊ガス雰囲気
水素還元・オゾンガス・アンモニア・H2S・AXガス
・水素アニールにてIoTセンサの犠牲層エッチング
・合金と水素との反応による特性向上
・オゾン反応による酸化物上の金属電極の抵抗軽減
    
型式・型番 HT-RTP-4000
温度範囲 常用:100~1350℃ MAX1400℃
※1400℃での保持はできません。到達のみです。
※1350℃保持時間 4時間 10セット
加熱速度 4℃/s(100~1000℃間の平均速度)
(サセプタ形状材質・熱容量により異なります)
被加熱物 4インチ(Φ100㎜)ウエハ 1枚
雰囲気 不活性ガスフロー中
加熱方式 放物面反射赤外線ランプ両面型加熱方式
加熱制御方式 熱電対制御方式
サイズ・重量 本体:約W1450×D1140×H1750mm 約800kg
冷却水循環装置:約W870×D854×H1700mm 約280㎏(乾燥重量)
電源 本体:三相 AC200V-約50kVA
冷却水循環装置:AC200V-12.2kVA
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